功率半導體及LED用封裝熱阻檢測方法JEDEC標準
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相應規(guī)格于2010年11月被管理半導體封裝熱特性評測技術(shù)的JEDEC JC15委員會認定為“JESD51-14”標準。該標準命名為：“在熱量流過單一路徑的半導體器件時，用于檢測結(jié)（注：器件的結(jié)點）－殼（注：封裝的外殼）間熱阻的雙面瞬態(tài)檢測方法”。
此次的標準（以及明導和英飛凌于2005年共同發(fā)表的方法）基于MicReD推出的下述技術(shù)：
（1）靜態(tài)的瞬態(tài)熱阻檢測技術(shù)（已成為JEDEC51-1標準）；
注：使用T3Ster（右上）的熱阻檢測方法。首先使用T3Ster求出溫度的時間分布（左圖）。然后使用相關(guān)軟件將時間分布信息轉(zhuǎn)換為構(gòu)造函數(shù)（右圖）。（點擊圖片放大）
?。?）利用由該技術(shù)獲得的時間-溫度分布信息導出構(gòu)造函數(shù)（顯示熱阻-熱容關(guān)系的函數(shù)或圖形）。
另外，（1）和（2）兩技術(shù)已通過使用明導提供的熱阻檢測用硬件“T3Ster”及其軟件，實現(xiàn)了商品化。
JESD51-14的方法在包含隔離層和不包含隔離層兩種場合（這就是“雙面”的含義）均基于（1）和（2）這兩種技術(shù)，推算出各自的構(gòu)造函數(shù)。構(gòu)造函數(shù)一致的部分可作為結(jié)-殼間熱阻高精度求出。另外，在微處理器等散熱路徑不單一時，通過改為單一路徑的設(shè)計并多次檢測，便可求出熱阻。
在此次明導宣布上述消息的同時，英飛凌在2011年3月20～24日于美國舉行的國際會議“2011 IEEE SEMI-THERM Thermal Measurement, Modeling and Management Symposium”上，發(fā)表了與JESD51-14相關(guān)的論文。另外，上面提到的MicReD部門在2005年時是一家總部設(shè)在匈牙利布達佩斯的企業(yè)（MicReD Kft.）。MicReD后被英國Flomerics Group PLC.收購。后來明導又于2008年收購了Flomerics，現(xiàn)在變成了明導的MicReD部門。
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