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            EEPW首頁 > 模擬技術(shù) > 設(shè)計(jì)應(yīng)用 > 高介電常數(shù)柵電介質(zhì)/金屬柵極的FA CMP技術(shù)

            高介電常數(shù)柵電介質(zhì)/金屬柵極的FA CMP技術(shù)

            作者: 時間:2013-05-27 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏
            ttp://www.elecfans.com/uploads/allimg/120504/1G31B403-12.jpg" width=545 height=161>

              結(jié)論

              良好的WID、WIW和WTW厚度控制是制造基于HKMG技術(shù)的高性能邏輯芯片的關(guān)鍵。ILD0化學(xué)機(jī)械研磨工藝?yán)?a class="contentlabel" href="http://www.biyoush.com/news/listbylabel/label/FA">FA對不同尺寸大小和密度的芯片結(jié)構(gòu)均提供優(yōu)異的表面形貌和平坦度控制,并且通過使用FullVision實(shí)時終點(diǎn)控制系統(tǒng)進(jìn)一步確保穩(wěn)定的WTW厚度控制。


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