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            硅光子技術(shù)全面普及:體驗(yàn)硅發(fā)光技術(shù)的進(jìn)展(四)

            作者: 時(shí)間:2013-10-08 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏
            技術(shù)群。與CMOS兼容技術(shù)相比,所占面積和耗電量均降低了2~3位數(shù)。光RAM等記錄介質(zhì)的開發(fā)也取得了成功。(攝影:NTT)

              作為其核心技術(shù),目前已經(jīng)開發(fā)出了激光振蕩元件、光開關(guān)及光RAM等,每個(gè)元件的尺寸為5~15μm見方。這樣便能以100萬個(gè)/cm2的密度集成光元件。其中,光開關(guān)的耗電量非常小,只有660aJ/bit,與電信號(hào)相比,有望大幅降低耗電量。該公司就這些技術(shù)表示,“打算2025年前后實(shí)現(xiàn)能貼在微處理器上的智能光網(wǎng)絡(luò)芯片”(納富)。

              現(xiàn)在的光子晶體未采用硅基,因?yàn)楹茈y采用硅基以高效率制作主動(dòng)元件。不過,結(jié)合發(fā)光的鍺和硅等技術(shù)的話,就有可能實(shí)現(xiàn)硅基光子晶體。

            DWDM可能是最后的課題

              另一個(gè)課題是DWDM,以數(shù)十Tbps/cm2進(jìn)行光傳輸可能需要DWDM。該技術(shù)早在15年前就已普遍用于長(zhǎng)距離通信用設(shè)備等,但用于則非常難。其中一個(gè)原因是,各個(gè)光元件發(fā)出的光的波長(zhǎng)以及通過波導(dǎo)的光的波長(zhǎng)因溫度變化存在巨大偏差(圖11)。將長(zhǎng)距離通信設(shè)備使用的溫度控制功能用于技術(shù)的成本過高,不現(xiàn)實(shí)。

            硅光子技術(shù)全面普及:體驗(yàn)硅發(fā)光技術(shù)的進(jìn)展(四)

              圖11:是采用波分復(fù)用(WDM)還是采用光多級(jí)調(diào)制

              波分復(fù)用(WDM)技術(shù)和光多級(jí)調(diào)制技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)和課題的比較。WDM的一大課題是耐溫度變化性較弱,而光多級(jí)調(diào)制存在電路規(guī)模和元件成本增大的課題。

              因此,增加光傳輸容量的方法方面,與DWDM相比,近來更重視多級(jí)調(diào)制的光傳輸技術(shù)人員越來越多。

              但也有研究人員認(rèn)為,“相對(duì)于電傳輸,利用DWDM是光傳輸?shù)谋举|(zhì)優(yōu)勢(shì),必須要推進(jìn)利用DWDM的研究開發(fā)”(東京大學(xué)的和田)。最近,MIT的研究人員還在開發(fā)使波導(dǎo)不依賴于溫度的技術(shù)(圖12)。

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              圖12:還實(shí)現(xiàn)了折射率不依賴溫度的硅波導(dǎo)

              本圖為MIT開發(fā)的折射率基本不依賴溫度的光波導(dǎo)概要。隨著溫度的上升,硅的折射率會(huì)變大,而樹脂的折射率會(huì)變小。因此,波導(dǎo)的有效折射率基本固定。

              MIT將覆蓋波導(dǎo)硅芯的“包覆”部的一部分換成了樹脂。這樣,波長(zhǎng)對(duì)溫度的依賴性基本就不存在了。

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