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        轉(zhuǎn)向納米晶體管是SRAM的福音

        —— 英特爾、Synopsys 和 TSMC 均推出創(chuàng)紀錄的內(nèi)存密度
        作者: 時間:2025-03-05 來源:IEEE 收藏

        上周在 IEEE 國際固態(tài)電路會議 (ISSCC) 上,先進芯片制造領(lǐng)域最大的兩個競爭對手 Intel 和  詳細介紹了使用其最新技術(shù) Intel 18a 和  N2 構(gòu)建的關(guān)鍵內(nèi)存電路 的功能.多年來,芯片制造商不斷縮小電路規(guī)模的能力有所放緩,但縮小 尤其困難,因為  由大型存儲單元陣列和支持電路組成。

        本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/202503/467651.htm

        兩家公司最密集封裝的 SRAM 模塊使用 0.021 平方微米的存儲單元,每平方毫米 38.1 兆比特。該密度相當(dāng)于 Intel 的 23% 和  的 12% 的提升。有點令人驚訝的是,同一天早上, 推出了一種 SRAM 設(shè)計,該設(shè)計使用上一代晶體管實現(xiàn)了相同的密度,但運行速度不到一半。

        和臺積電的技術(shù)是兩家公司首次使用一種稱為納米片的新型晶體管架構(gòu)。(三星在上一代人之前就過渡到納米片。在前幾代產(chǎn)品中,電流通過鰭狀通道區(qū)域流過晶體管。該設(shè)計意味著,增加晶體管可以驅(qū)動的電流(以便電路可以更快地運行或涉及更長的互連)需要向器件添加更多的鰭片。納米片器件去掉了鰭片,將它們換成一堆硅帶。重要的是,這些納米片的寬度因器件而異,因此可以以更靈活的方式增加電流。

        “納米片似乎使 SRAM 比其他幾代產(chǎn)品具有更好的擴展性,”內(nèi)存咨詢公司 Objective Analysis 的首席分析師 Jim Handy 說。

        靈活的晶體管制造更小、更好的 SRAM

        SRAM 單元在 6 晶體管電路中存儲一個位。但是晶體管并不相同,因為它們對它們有不同的要求。在基于 FinFET 的單元中,這可能意味著構(gòu)建兩對器件,每對器件有兩個鰭片,其余兩個晶體管各有一個鰭片。

        納米片器件“在 SRAM 單元的大小上提供了更大的靈活性,”臺積電高級總監(jiān)兼 IEEE 院士 Tsung-Yung Jonathan Chang 說。他說,帶有納米片的晶體管之間的意外變化較少,這一質(zhì)量提高了 SRAM 的低電壓性能。

        兩家公司的工程師都利用了納米片晶體管的靈活性。對于以前稱為下拉和通柵晶體管的雙鰭器件,納米片器件在物理上可能比它們所取代的兩個獨立鰭片更窄。但是由于納米片堆棧的總硅面積更大,因此它可以驅(qū)動更多的電流。對于 Intel 來說,這意味著單元面積減少了 23%。

        “通常,位線已經(jīng)卡在 256 位一段時間了。對于 N2...我們可以將其擴展到 512。它將密度提高了近 10%?!猅sung-Yung Jonathan Chang,臺積電

        詳細介紹了內(nèi)存電路的兩個版本,高密度和高電流版本,后者更多地利用了納米片的柔韌性。在 FinFET 設(shè)計中,通柵和下拉晶體管具有相同的鰭片數(shù)量,但納米片允許使下拉晶體管比通柵器件更寬,從而降低了最低工作電壓。

        除了納米片晶體管,Intel 18a 也是第一個包含背面供電網(wǎng)絡(luò)的技術(shù)。直到 18a,通常很厚的輸電互連和更精細的信號傳輸互連都構(gòu)建在硅之上。背面電源將電源互連移動到硅下方,在那里它們可以更大、電阻更小,通過穿過硅的垂直連接為電路供電。該方案還為信號互連釋放了空間。


        Intel 18A Ribbon FET 靜態(tài)隨機存取存儲器位單元圖帶狀 FET 具有比 Fin FET 位單元更寬的傳輸柵極和下拉晶體管。

        對于 FinFET 器件,SRAM 的傳輸柵極 (PG) 和下拉 (PD) 晶體管需要比其他晶體管驅(qū)動更多的電流,因此它們由兩個鰭片制成。使用納米片晶體管,SRAM 可以具有更靈活的設(shè)計。在 Intel 的大電流設(shè)計中,PG 器件比其他器件更寬,但 PD 晶體管甚至比這更寬,以驅(qū)動更大的電流。英特爾


        然而,英特爾技術(shù)主管兼經(jīng)理 Xiaofei Wang 告訴 ISSCC 的工程師,背面電源對縮小 SRAM 位單元本身沒有幫助。他說,事實上,在電池內(nèi)使用背面電源可以將其面積擴大 10%。因此,英特爾的團隊將其限制在外圍電路和位元陣列的周邊。在前者中,它有助于縮小電路,因為工程師能夠在 SRAM 單元下方構(gòu)建一個關(guān)鍵電容器。

        臺積電尚未轉(zhuǎn)向反向電源。但它能夠僅從納米片晶體管中提取有用的電路級改進。由于晶體管的靈活性,TSMC 工程師能夠延長位線的長度,即單元寫入和讀取的連接。較長的位線連接更多的 SRAM 單元,意味著存儲器需要更少的外圍電路,從而縮小了整體面積。

        “通常,位線會卡在 256 位一段時間,”Chang 說?!皩τ?N2......我們可以將其擴展到 512。它將密度提高了近 10%。

        新思科技擠壓 SRAM 電路

        銷售電子設(shè)計自動化工具和電路設(shè)計,工程師可以購買這些工具并將其集成到他們的系統(tǒng)中,其密度與臺積電和英特爾大致相同,但使用的是當(dāng)今最先進的 FinFET 技術(shù) 3 納米。該公司的密度增益主要來自控制 SRAM 陣列本身的外圍電路,特別是所謂的接口雙軌架構(gòu)與擴展范圍電平轉(zhuǎn)換器相結(jié)合。

        產(chǎn)品管理高級總監(jiān) Rahul Thukral 解釋說,為了節(jié)省功耗,尤其是在移動處理器中,設(shè)計人員已經(jīng)開始以不同的電壓驅(qū)動 SRAM 陣列和外圍電路。稱為雙軌,這意味著外設(shè)可以在需要時以低電壓運行,而 SRAM 位單元以較高電壓運行,因此它們丟失位的可能性較小。

        但這意味著 SRAM 單元中代表 1 和 0 的電壓與外圍的電壓不匹配。因此,設(shè)計人員采用了稱為電平轉(zhuǎn)換器的電路來進行補償。

        新的 Synopsys SRAM 通過將電平轉(zhuǎn)換器電路放置在與外設(shè)的接口處而不是單元陣列的深處,并使電路更小,從而提高了存儲器的密度。該公司所謂的“擴展范圍電平轉(zhuǎn)換器”將更多功能集成到電路中,同時使用具有更少鰭片的 FinFET,從而使 SRAM 整體更加緊湊。

        但根據(jù) Thukral 的說法,密度并不是對其有利的唯一點。“它允許兩個電源軌相距非常遠,”他說,指的是位單元電壓和外圍電壓。位單元的電壓可以在 540 毫伏到 1.4 伏之間運行,而外圍的電壓可以低至 380 mV。他說,這種電壓差使 SRAM 能夠很好地工作,同時最大限度地降低功耗。“當(dāng)你把它降到非常非常低的電壓時......它大大降低了功率,而這正是當(dāng)今 AI 世界所喜歡的,“他說。

        當(dāng)被問及類似的電路設(shè)計是否有助于在未來的納米片技術(shù)中縮小 SRAM 時,Thukral 說:“答案是 100% 是的。

        盡管 Synopsys 設(shè)法在密度上與 TSMC 和 Intel 相媲美,但其產(chǎn)品的運行速度要慢得多。Synopsys SRAM 的最大頻率為 2.3 GHz,而臺積電 SRAM 的最快版本為 4.2 GHz,英特爾的 SRAM 為 5.6 GHz。

        “令人印象深刻的是,Synopsys 可以在 3 nm 上達到相同的密度,而且從長遠來看,它的頻率將與該節(jié)點的大眾市場硅相關(guān),”More Than Moore 首席分析師 Ian Cutress 說。“它還展示了工藝節(jié)點很少是靜態(tài)的,像 SRAM 這樣新的、密集的設(shè)計仍在出現(xiàn)。”





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