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      突破技術(shù)壁壘!華東理工自主研發(fā)鈣鈦礦單晶芯片通用生長技術(shù)

      作者: 時(shí)間:2024-04-07 來源: 收藏

      新華社客戶端5日報(bào)導(dǎo),大學(xué)清潔能源材料與器件團(tuán)隊(duì),日前自主研發(fā)了一種通用生長技術(shù),將晶體生長周期由7天縮短至1.5天,實(shí)現(xiàn)了30余種金屬鹵化物半導(dǎo)體的低溫、快速、可控制備,為新一代高性能光電子器件提供了豐富材料庫。相關(guān)成果發(fā)表于國際學(xué)術(shù)期刊《自然·通訊》。

      本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/202404/457214.htm

      報(bào)導(dǎo)稱,長期以來,國際上未有的通用制備方法,傳統(tǒng)方法僅能以滿足高溫環(huán)境、生長速率慢的方式制備幾種毫米級(jí)單晶,極大限制了的實(shí)際應(yīng)用。

      對于鈣鈦礦單晶芯片生長所涉及的成核、溶解、傳質(zhì)、反應(yīng)等多個(gè)過程,大學(xué)團(tuán)隊(duì)結(jié)合多重實(shí)驗(yàn)論證和理論模擬,揭示了傳質(zhì)過程是決定晶體生長速率的關(guān)鍵因素。

      由此研發(fā)了以二甲氧基乙醇為代表的生長體系,透過多配位基團(tuán)精細(xì)調(diào)控膠束的動(dòng)力學(xué)過程,使溶質(zhì)的擴(kuò)散系數(shù)提高了3倍。

      在高溶質(zhì)通量系統(tǒng)中,研究人員實(shí)現(xiàn)了將晶體生長環(huán)境溫度降低攝氏60度,晶體生長速率提高4倍,生長周期由7天縮短至1.5天。

      該成果主要完成人之一、大學(xué)教授侯宇說,「我們突破了傳統(tǒng)生長體系中溶質(zhì)擴(kuò)散不足的技術(shù)壁壘,提供了一條更普適、更高效、更低條件的單晶芯片生長路線。」




      關(guān)鍵詞: 華東理工 鈣鈦礦 單晶芯片

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