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            晶盛機(jī)電披露碳化硅進(jìn)展

            作者: 時間:2024-03-08 來源:全球半導(dǎo)體觀察 收藏

            近日,在接受機(jī)構(gòu)調(diào)研時表示,目前公司已基本實(shí)現(xiàn)8-12英寸大硅片設(shè)備的全覆蓋并批量銷售,6英寸外延設(shè)備實(shí)現(xiàn)批量銷售且訂單量快速增長,成功研發(fā)出具有國際先進(jìn)水平的8英寸單片式外延生長設(shè)備,實(shí)現(xiàn)了成熟穩(wěn)定的8英寸外延工藝。同時公司基于產(chǎn)業(yè)鏈延伸,開發(fā)出了應(yīng)用于8-12英寸晶圓及封裝端的減薄設(shè)備、外延設(shè)備、LPCVD設(shè)備、ALD設(shè)備等。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/202403/456151.htm

            自2017年開始碳化硅產(chǎn)業(yè)布局,聚焦碳化硅襯底片和碳化硅外延設(shè)備兩大業(yè)務(wù)。公司已掌握行業(yè)領(lǐng)先的8英寸碳化硅襯底技術(shù)和工藝,量產(chǎn)晶片的核心位錯達(dá)到行業(yè)領(lǐng)先水平,2023年11月公司正式啟動了“年產(chǎn)25萬片6英寸、5萬片8英寸碳化硅襯底片”項目,目前已實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)與銷售。

            于2023年推出了6英寸雙片式碳化硅外延設(shè)備、8英寸碳化硅外延設(shè)備,外延的厚度均勻性、摻雜均勻性達(dá)到行業(yè)領(lǐng)先水平。

            其中6英寸雙片式碳化硅外延設(shè)備在外延產(chǎn)能、運(yùn)營成本等方面已取得國際領(lǐng)先優(yōu)勢,與單片設(shè)備相比,雙片設(shè)備單臺產(chǎn)能增加70%,單片運(yùn)營成本降幅可達(dá)30%以上,助力客戶創(chuàng)造極大價值。

            8英寸碳化硅外延設(shè)備可兼容6、8寸碳化硅外延生產(chǎn),解決了腔體設(shè)計中的溫場均勻性、流場均勻性等控制難題,外延的厚度均勻性1.5%以內(nèi)、摻雜均勻性4%以內(nèi),達(dá)到行業(yè)領(lǐng)先水平。




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