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            EEPW首頁(yè) > EDA/PCB > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 五個(gè)延續(xù)摩爾定律的方法

            五個(gè)延續(xù)摩爾定律的方法

            作者: 時(shí)間:2023-03-28 來(lái)源:是說(shuō)芯語(yǔ) 收藏

            是1965年,由時(shí)任Fairchild半導(dǎo)體公司研發(fā)主管的Gordon Moore所提出的概念最初的定義是以最佳成本整合進(jìn)芯片的晶體管每年會(huì)倍增。而Moore創(chuàng)辦英特爾之后,修改了相關(guān)概念,變成電腦芯片的晶體管每?jī)赡陼?huì)倍增,而這也成為我們熟知的。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/202303/444981.htm

            圖說(shuō):過(guò)去幾十年的半導(dǎo)體發(fā)展路徑,基本都遵照著的方向走。

            摩爾定律在過(guò)去幾十年的時(shí)間里很好的發(fā)揮了作為芯片技術(shù)發(fā)展基準(zhǔn)的作用,但隨著晶體管制程發(fā)展的困難度越來(lái)越高,也開(kāi)始有人宣稱(chēng)該定律已經(jīng)不適合未來(lái)半導(dǎo)體的發(fā)展。而首先跳出來(lái)說(shuō)該定律已死的,其實(shí)就是英特爾自家。由于英特爾過(guò)去幾年在發(fā)展10nm技術(shù)遇到困難,因此只能依靠14nm制程不斷調(diào)整,但制程技術(shù)無(wú)法前進(jìn),代表芯片上的晶體管密度就很難有大幅成長(zhǎng),也因此對(duì)英特爾來(lái)說(shuō),摩爾定律成為遙不可及的目標(biāo)。

            然而英特爾停滯不前,其在芯片制造方面的對(duì)手,也就是臺(tái)積電、三星等,卻未必認(rèn)同,二者都已經(jīng)量產(chǎn)7nm EUV制程芯片,在晶體管密度方面已經(jīng)遠(yuǎn)遠(yuǎn)超出英特爾所能達(dá)到的量級(jí),英特爾隨后雖也宣稱(chēng)其10nm正式量產(chǎn)(晶體管密度約等同于7nm),但已經(jīng)晚了好幾步。

            另一方面,NVIDIA執(zhí)行長(zhǎng)黃仁勛也在CES發(fā)布會(huì)上公開(kāi)表示摩爾定律已死,他的論點(diǎn)比較偏向英特爾,認(rèn)為未來(lái)制程發(fā)展空間有限,很難再把那么多晶體管塞進(jìn)空間有限的芯片中,應(yīng)該要轉(zhuǎn)而追求架構(gòu)的革新。

            當(dāng)然,目前的晶體管制造技術(shù)或者是應(yīng)用方向,是否還能符合當(dāng)初摩爾所制訂的”定律”,其實(shí)有不小的討論空間,摩爾定律是否已死亦成為近年來(lái)最受人關(guān)注的議題之一,雖然不少人認(rèn)為摩爾定律該退役了,但也有不少人認(rèn)為摩爾定律還大有可為,而認(rèn)為摩爾定律未死的其中之一,就是臺(tái)積電。

            那么包含臺(tái)積電的制程技術(shù)在內(nèi),還有哪些發(fā)展方向最有可能延續(xù)摩爾定律的幾個(gè)技術(shù)發(fā)展方向?以下提出五種供各位讀者參考。

            1.可延續(xù)至0.1nm的制程發(fā)展

            在臺(tái)灣的SEMICON 2019大會(huì)上,臺(tái)積電研發(fā)負(fù)責(zé)人黃漢森延續(xù)之前臺(tái)積電全球市場(chǎng)部主管Godfrey Cheng曾發(fā)表過(guò)的文章看法,認(rèn)為摩爾定律還未死。Godfrey Cheng認(rèn)為,如果以計(jì)算性能成長(zhǎng)為指標(biāo),那么過(guò)去幾年包含GPU、AI芯片,這種借由芯片架構(gòu)的改善來(lái)達(dá)到的計(jì)算能量成長(zhǎng)要更驚人。

            過(guò)去是CPU等傳統(tǒng)架構(gòu)很大一部分是以晶體管的密度來(lái)決定性能的增長(zhǎng),其實(shí)這種概念已經(jīng)有點(diǎn)老舊了,未來(lái)應(yīng)該要更重視架構(gòu)的革新,但如果要回到晶體管密度這種單純定義上,那么要維持單一芯片兩年密度倍增的的軌跡,其實(shí)難度不大(對(duì)臺(tái)積電而言)。

            而黃漢森更進(jìn)一步的表示,未來(lái)臺(tái)積電的制程密度將有可能達(dá)到0.1nm,而搭配納米碳管技術(shù),可以將制程工藝微縮到0.1nm的大小,這時(shí)的晶體管約等同于氫原子的大小。而他表示,7nm已經(jīng)是成熟制程,5nm也即將量產(chǎn),而3nm亦箭在弦上,目前臺(tái)積電也已經(jīng)在發(fā)展2nm的技術(shù),未來(lái)數(shù)十年,摩爾定律仍將在持續(xù)下去。

            當(dāng)然,黃漢森也表示,未來(lái)芯片的設(shè)計(jì)不是只講求單一芯片的晶體管規(guī)模,而是要從功能整合,或者是應(yīng)用場(chǎng)景去看,純粹以密度發(fā)展為定義的摩爾定律雖仍可持續(xù),但未來(lái)也應(yīng)該要針對(duì)新型態(tài)的芯片設(shè)計(jì)設(shè)計(jì)出全新的定義。

            2.3D封裝技術(shù)整合異構(gòu)計(jì)算

            封裝技術(shù)是半導(dǎo)體制程的重要角色,也是決定計(jì)算應(yīng)用場(chǎng)景的關(guān)鍵技術(shù),目前仍在制程技術(shù)持續(xù)努力的晶圓制造商,基本都已經(jīng)認(rèn)清制程脫離不了封裝,紛紛跳下來(lái)做封裝的業(yè)務(wù),而封裝技術(shù)也從傳統(tǒng)的2D拼圖,開(kāi)始轉(zhuǎn)成3D立體堆疊,畢竟土地有限,蓋高樓才能容納更多住戶(hù)已經(jīng)是不變的真理。

            圖說(shuō):3D封裝已經(jīng)成為未來(lái)提升芯片密度、功能與性能的必備手段。

            英特爾在去年底的技術(shù)日揭示了其最新的3D封裝技術(shù)Foveros,其在概念上就是要通過(guò)更靈活的不同功能芯片顆粒的組合調(diào)配,突破傳統(tǒng)的一個(gè)芯片只能通過(guò)同一個(gè)制程來(lái)完成的限制,讓不同功能芯片顆粒都能用其具備最佳成本、效能的制程制造,最后在封裝階段再組合起來(lái),而因?yàn)橛⑻貭栐阢@孔、貼合、拼裝方面的技術(shù)發(fā)展有其心得,因此希望通過(guò)這個(gè)封裝技術(shù)來(lái)讓英特爾的產(chǎn)品可以跨越到更多的計(jì)算領(lǐng)域之中。

            臺(tái)積電這方面則是推出接近3D封裝層次的SoIC封裝,SoIC 是一種創(chuàng)新的多芯片堆棧技術(shù),主要是針對(duì) 10nm以下的制程技術(shù)進(jìn)行晶圓級(jí)接合,SoIC技術(shù)的最大特色是沒(méi)有突起的鍵合結(jié)構(gòu),因此運(yùn)作性能將會(huì)更優(yōu)秀。而SoIC在功能特性上就與英特爾的Foveros技術(shù)大同小異,同樣標(biāo)榜可以把很多不同性質(zhì)的芯片整合在一起。

            三星目前已經(jīng)提供2.5D封裝的I-Cube技術(shù),同時(shí)也計(jì)劃在2019年推出3D SiP(System In Package),力圖壓倒臺(tái)積電。

            通過(guò)立體堆疊的方式,單一芯片可以放進(jìn)更多的晶體管,甚至完全不同制程的芯片顆粒也能封在一起,這也突破了傳統(tǒng)的芯片制造概念。而通過(guò)3D封裝技術(shù),制造端可以制造較小規(guī)模晶體管的芯片顆粒,但通過(guò)對(duì)不同顆粒的堆疊封裝,就可以變成超大規(guī)模的單一芯片,摩爾定律所定義的單一芯片晶體管密度成長(zhǎng)曲線,對(duì)這類(lèi)封裝技術(shù)而言根本不算挑戰(zhàn)。

            3.石墨烯、納米碳管等新材料進(jìn)入半導(dǎo)體

            圖說(shuō):納米碳管是推動(dòng)未來(lái)半導(dǎo)體制程前進(jìn)0.1nm的重要技術(shù)

            新材料對(duì)于制程技術(shù)的發(fā)展同樣重要,由于制程密度越高,其承受的量子物理現(xiàn)象也就越難掌控,而更重要的是,晶體管設(shè)計(jì)必須讓電子以設(shè)計(jì)者想要的方向跑,傳統(tǒng)的硅其實(shí)在微縮的過(guò)程中已經(jīng)遇到過(guò)很多問(wèn)題,因此,必須添加很多不同的材料來(lái)改善傳統(tǒng)半導(dǎo)體材料的導(dǎo)電特性,而要進(jìn)入3nm,就必須導(dǎo)入新的材料,根據(jù)三星以及臺(tái)積電的路線圖,這種新材料在進(jìn)入2nm之后也會(huì)遇到瓶頸。而臺(tái)積電也說(shuō)明,通過(guò)納米碳管,1.2nm成為可能,未來(lái)制程甚至可繼續(xù)發(fā)展至0.1nm。

            4.硅光子

            半導(dǎo)體的形式還有很多種,除了傳統(tǒng)堆晶體管,以控制電子為方法的傳統(tǒng)芯片設(shè)計(jì),近來(lái)還有利用光來(lái)計(jì)算的芯片型態(tài),由中國(guó)年輕科學(xué)家沈亦晨所創(chuàng)辦的Lightelligence,就以光來(lái)代替電子,完成了計(jì)算工作。

            圖說(shuō):Lightelligence正在發(fā)展的光子計(jì)算,或?qū)⒅貙?xiě)摩爾定律。

            光在半導(dǎo)體領(lǐng)域其實(shí)并不罕見(jiàn),但過(guò)去多被用來(lái)作為數(shù)據(jù)傳輸?shù)妮d體,而不是計(jì)算工作,若光子計(jì)算能夠成為主流計(jì)算的一部份,或者是取代傳統(tǒng)半導(dǎo)體計(jì)算形式,那么對(duì)產(chǎn)業(yè)而言,晶體管密度的定義也可以推倒重來(lái),目前光子芯片用的制程還是屬于非常低階的技術(shù),若要以最簡(jiǎn)單的方式:提高晶體管密度來(lái)增加計(jì)算速度,可能摩爾定律所定義的每?jī)赡瓯对隹梢源蟠罂s短。

            5.量子計(jì)算

            而量子計(jì)算有很多種實(shí)現(xiàn)方式,包括核磁共振 (nuclear magnatic resonance)、離子陷阱 (iron trap)、中性原子 (netural atom)、共振腔量子電動(dòng)力學(xué) (cavity QED)、全光學(xué)式(All optical)、固態(tài)材料 (solid state)、超導(dǎo)材料 (superconductor),目前超導(dǎo)材料算是量子計(jì)算的主流,而前面提到的硅光子計(jì)算,同樣也是屬于量子計(jì)算的范疇。

            圖說(shuō):IBM的Q量子計(jì)算機(jī)。

            作為重新定義計(jì)算的量子計(jì)算技術(shù),其衡量計(jì)算算力的最基礎(chǔ)單位,就是量子比特了。如果要讓量子計(jì)算符合摩爾定律,那么以量子比特的規(guī)模增加來(lái)取代傳統(tǒng)晶體管密度的定義,可能會(huì)是比較適合的方向。

            當(dāng)然,目前量子計(jì)算還在相當(dāng)早期的階段,不同的量子計(jì)算實(shí)現(xiàn)方法也都還在發(fā)展當(dāng)中,其中,超導(dǎo)量子計(jì)算已經(jīng)非常接近量子霸權(quán)。但由Google所聲稱(chēng)達(dá)成的量子霸權(quán),其計(jì)算設(shè)備只有具備53個(gè)量子比特,如果未來(lái)能搞定算法以及應(yīng)用轉(zhuǎn)移的困難點(diǎn),為了因應(yīng)計(jì)算需求的成長(zhǎng),量子比特的數(shù)量也會(huì)很快的增加,根據(jù)專(zhuān)家的看法,屆時(shí)摩爾定律將遠(yuǎn)遠(yuǎn)追不上量子計(jì)算的發(fā)展。

            為了滿(mǎn)足量子計(jì)算的發(fā)展,IBM也發(fā)明了一個(gè)叫做量子體積(Quantum Volume)的專(zhuān)用性能指標(biāo),用于測(cè)量量子電腦的強(qiáng)大程度,其影響因素包括量子位元數(shù)、閘和測(cè)量誤差、設(shè)備交叉通信、以及設(shè)備連接和電路編譯效率等。

            因此,量子體積越大,量子電腦的性能就越強(qiáng)大,能夠解決的實(shí)際問(wèn)題就越多。重要的是,IBM發(fā)現(xiàn)量子體積遵循一種”摩爾定律”:其量子電腦實(shí)現(xiàn)的量子體積,每年增加一倍。




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