芯研所9月26日消息，近日美國開發(fā)和商業(yè)化原子精密制造技術(shù)公司Zyvex Labs宣布，其推出了全球分辨率最高的光刻系統(tǒng)——ZyvexLitho1TM。它沒有采用EUV光刻技術(shù)，而是基于STM掃描隧道顯微鏡，使用的是電子束光刻（EBL）方式。實(shí)現(xiàn)了0.768nm的原子級精密圖案和亞納米級分辨率芯片的制造，遠(yuǎn)超EVU光刻機(jī)的精度。

目前，5nm級及以下的尖端半導(dǎo)體制程必須采用EUV光刻機(jī)，而精度更高的2nm制程所使用的ASML新一代0.55 NA EUV光刻機(jī)，售價或?qū)⒏哌_(dá)4億美元。但想要實(shí)現(xiàn)1nm以下更先進(jìn)的制程，就連最新的光刻機(jī)也無法實(shí)現(xiàn)。ZyvexLitho1TM系統(tǒng)則是直接將芯片制造工藝帶到了亞納米級，或許在不久之后就將正式投入商用，相信隨著這項(xiàng)系統(tǒng)的使用，芯片產(chǎn)業(yè)必將迎來更大的發(fā)展。