ULVAC-PHI 股份有限公司（神奈川縣茅崎市、社長(zhǎng) 原 泰博）推出一款追求高自動(dòng)化及精簡(jiǎn)操作的「PHI GENESIS」全新多功能掃描式 X 射線光電子能譜分析儀（XPS：X-ray Photoelectron Spectroscopy 又名 ESCA: Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）。

掃描式 X 射線光電子能譜分析儀「PHI GENESIS」外觀

【背景】
帶動(dòng)全球產(chǎn)業(yè)鏈的全固態(tài)電池、先進(jìn)半導(dǎo)體和光觸媒等先端應(yīng)用領(lǐng)域，都大量使用不同的複合材料，在材料的研究開發(fā)中，不僅對(duì)材料的性能以及優(yōu)化材料界面粘附性質(zhì)有要求，同時(shí)也需要與時(shí)間賽跑。為了滿足日新月異且復(fù)雜的表面與界面分析需求，從而加快材料的研究和開發(fā)，我們推出了全新的 XPS 表面分析儀，不僅具有極強(qiáng)的基本性能、高度的自動(dòng)化，并能夠滿足客戶的各種個(gè)性化要求。這就是 ULVAC-PHI 推出的全新掃描式 X 射線光電子能譜分析儀— PHI GENESIS。

【概述】
「PHI GENESIS」XPS 將大幅進(jìn)化的基本性能置于高度空間利用的外殼中，它保有50 年傳統(tǒng)的 PHI XPS 系列的“核心基因”并提高了自動(dòng)化，成為了大幅縮短分析時(shí)間，且具有可擴(kuò)展性的最新科研儀器。

「PHI GENESIS」XPS 通過自動(dòng)樣品交換以及多點(diǎn)分析功能，結(jié)合提高計(jì)數(shù)率的高靈敏度分析儀，提供快速、高靈敏度和微區(qū)的 XPS 分析。迄今為止，ULVAC-PHI 和Physical Electronics USA 已將許多全球首創(chuàng)的 XPS 分析技術(shù)投入實(shí)際應(yīng)用中（掃描微聚焦型 X 射線、全自動(dòng)化 XPS 分析、自動(dòng)中和絕緣體分析、用團(tuán)簇離子蝕刻槍對(duì)有機(jī)材料進(jìn)行深度分析，以及通過硬 X 射線對(duì)無機(jī)材料進(jìn)行無破壞性的深度分析）。在整合這些技術(shù)到儀器中，便可以為金屬、半導(dǎo)體、陶瓷和有機(jī)物質(zhì)等所有材料提供尖端的 XPS 分析技術(shù)。

PHI GENESIS 的另一項(xiàng)創(chuàng)新是對(duì)易用性的追求，新軟件旨在提供各個(gè)層次的用戶都可快速上手使用，無論是表面分析的初學(xué)者還是尖端科學(xué)家，是在制造現(xiàn)場(chǎng)還是在尖端開發(fā)的研究機(jī)關(guān)，都能夠符合使用者的習(xí)慣和需求。ULVAC-PHI亦提供了一個(gè)實(shí)驗(yàn)室級(jí)的硬 X 射線選項(xiàng)，使得在實(shí)驗(yàn)室環(huán)境中同樣可以使用如同大型同步輻射光源才能進(jìn)行的高階分析。

PHI GENESIS 不僅支持最先進(jìn)的復(fù)合材料分析，同時(shí)也能對(duì)復(fù)合器件的產(chǎn)品進(jìn)行分析，目標(biāo)成為加速全球研究與開發(fā)必不可少的分析儀器。

【上市時(shí)間】
2023 年 4 月