早在2018年底,中微半導體就曾對外透露,其自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機經(jīng)臺積電驗證,性能優(yōu)良,將用于臺積電的全球首條5nm制程生產(chǎn)線。值得一提的是,中微半導體也是唯一進入臺積電7nm制程蝕刻設備的大陸本土設備商。據(jù)悉,中微半導體與臺積電在28nm制程時便已開始合作,并一直延續(xù)到10nm和7nm制程。

近日,中微半導體發(fā)布會了在2019年的財報,2019年的收益達到了19.47億元,同比增長為18.77%,而歸母凈利潤為1.89億,同比增長為107.51%,年報中表示公司開發(fā)的高端刻蝕設備已在各大國際知名廠商的65nm到7nm的芯片生產(chǎn)線上。

另外,財報還顯示,中微半導體根據(jù)客戶的需求已經(jīng)開發(fā)出了5nm刻蝕設備,并且獲得了行業(yè)領先客戶的批量訂單。雖然財報并未公開該“領先客戶”的具體名字,不過應該可以確認是臺積電,因為現(xiàn)在只有他們量產(chǎn)了5nm工藝。

而中微半導體5nm刻蝕機成功獲得臺積電的批量采購,也反應了中國廠商在半導體設備領域的大突破。