中芯國際稱7nm EUV光刻機問題已解決 技術(shù)研發(fā)步入正軌
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在半導體工藝進入10nm節(jié)點之后，制造越來越困難，其中最復雜的一步——光刻需要用到EUV光刻機了，而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應。中芯國際去年也訂購了一臺EUV光刻機，日前該公司表示與ASML之間已解決光刻機的問題，EUV技術(shù)研發(fā)步入正軌。
本文引用地址：http://www.biyoush.com/article/201912/407990.htm前不久有消息稱ASML停止對中芯國際供應EUV光刻機，隨后ASML公司表示不是停供，而是延期，主要是在準備該國政府的出口申請文本工作。
中芯國際董事長周子學日前在韓國訪問，韓媒報道稱周子學表態(tài)已經(jīng)解決了與ASML之間就光刻機供應存在的問題，強調(diào)中芯國際在先進工藝上的研發(fā)、生產(chǎn)一直處于穩(wěn)定的軌道上，與客戶及設(shè)備供應商之間沒有任何問題。
ASML公司是EUV光刻機目前唯一的供應商，今年四季度，ASML預計交付8臺EUV光刻機，平均每臺價格達到了1.2億歐元，折合人民幣9.3億元，堪稱人類最昂貴的設(shè)備了。
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