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            EEPW首頁(yè) > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 英偉達(dá)下一代顯卡核心曝光,將采用三星 7nm EUV 工藝

            英偉達(dá)下一代顯卡核心曝光,將采用三星 7nm EUV 工藝

            作者: 時(shí)間:2019-06-11 來(lái)源:與非網(wǎng) 收藏

            今年下半年,包括蘋(píng)果、華為、AMD都將推出基于7nm的產(chǎn)品,其中AMD更是在CPU和GPU上同時(shí)采用7nm工藝。作為 顯卡 市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手, 也要準(zhǔn)備步入7nm。據(jù)產(chǎn)業(yè)鏈內(nèi)部消息,圖靈核心的下一代命名為安培核心,其將會(huì)采用 7nm EUV 工藝。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/201906/401392.htm

            一提到7nm,很多朋友都會(huì)以為與 臺(tái)積電 合作,事實(shí)上此次英偉達(dá)與 進(jìn)行合作,其芯片將會(huì)基于三星的7nm EUV工藝。盡管目前市面上還沒(méi)有一款芯片采用三星7nm EUV工藝,但考慮到基于安培核心的英偉達(dá)顯卡將會(huì)于2020年上市,所以時(shí)間方面不是問(wèn)題。

            三星的7nm EUV工藝之所以較臺(tái)積電晚,是因?yàn)槿翘^(guò)了7nm DUV,直接采用了7nm EUV工藝。目前臺(tái)積電第一代7nm工藝為DUV,7nm EUV工藝也已投產(chǎn),但相應(yīng)芯片還沒(méi)有上市。所以明年在7nm EUV工藝上,三星和臺(tái)積電將會(huì)面臨直接競(jìng)爭(zhēng)。



            關(guān)鍵詞: 英偉達(dá) 三星

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