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            EEPW首頁(yè) > 元件/連接器 > 設(shè)計(jì)應(yīng)用 > 導(dǎo)入柵極屏蔽結(jié)構(gòu) 溝槽式MOSFET功耗銳減

            導(dǎo)入柵極屏蔽結(jié)構(gòu) 溝槽式MOSFET功耗銳減

            作者: 時(shí)間:2017-10-21 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

              更高系統(tǒng)效率和功率密度,是現(xiàn)今數(shù)據(jù)和電信電源系統(tǒng)設(shè)計(jì)的首要目標(biāo)。為達(dá)此一目的,半導(dǎo)體開(kāi)發(fā)商研發(fā)出采用結(jié)構(gòu)的新一代溝槽式金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效電晶體(),可顯著降低全負(fù)載及輕負(fù)載時(shí)的功率損耗。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/201710/367171.htm

              如何得到更高的系統(tǒng)效率和功率密度,是現(xiàn)代數(shù)據(jù)和電信電源系統(tǒng)的核心關(guān)鍵,因?yàn)橐粋€(gè)小而高效率的電源系統(tǒng),可以有效節(jié)省空間與能源費(fèi)用。從拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的角度來(lái)看,變壓器將交流電轉(zhuǎn)換成直流電的同步整流,是許多應(yīng)用中開(kāi)關(guān)電源二次側(cè)的主要模組架構(gòu),此能改善能源轉(zhuǎn)換中的導(dǎo)通損耗和開(kāi)關(guān)損耗。從元件的角度來(lái)看,功率金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效電晶體()在過(guò)去十年有長(zhǎng)足的進(jìn)步,也因而衍生出新的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)和高功率密度電源。同步整流之主要需求如下:

              。低溝槽通態(tài)電阻RDS(ON)

              。低柵極電荷QG

              。低反向恢復(fù)電荷QRR和共源極輸出電容COSS

              。較不活躍的體二極體特性

              。低閘漏電Qgd/柵極電荷Qgs比

              封裝方式影響MOS功耗

              目前有半導(dǎo)體廠(chǎng)商采用(Shielded Gate)技術(shù),設(shè)計(jì)出高功率的MOSFET,如的PowerTrench MOSFET。本文以PowerTrench MOSFET為例,對(duì)于伺服器電源的同步整流或電信整流器的功率損耗深入分析。

              。導(dǎo)通損耗

              如果MOSFET產(chǎn)品的導(dǎo)通電阻和汲極電流低于二極體的正向電壓降,同步整流的功率損耗也會(huì)較低。因此,二次側(cè)的同步整流是提高系統(tǒng)效率的極佳解決方案。透過(guò)下列公式1,可以計(jì)算出導(dǎo)通損耗:

              公式1

              利用現(xiàn)今主流的中電壓MOSFET技術(shù),依額定電壓進(jìn)行TO-220標(biāo)準(zhǔn)封裝,可使RDS(ON)降低至1?2毫歐姆(mohm),而高電壓 MOSFET相關(guān)的封裝電阻,目前則尚未受到重視。不同于高電壓MOSFET,中電壓MOSFET的封裝本身由于打線(xiàn)(Bonding)、接腳 (Lead)和源極金屬(Source Mental)等因素,也占了總阻抗的一部分。透過(guò)Power56等SMD封裝,可以顯著降低中電壓MOSFET的總導(dǎo)通電阻,并同時(shí)降低封裝電感以減少電壓突波。

              。柵極驅(qū)動(dòng)損耗

              柵極驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)損耗與柵極電荷QG息息相關(guān)。在低電壓應(yīng)用中,驅(qū)動(dòng)損耗可能占總功率損耗的大部分,因?yàn)橄噍^于高壓開(kāi)關(guān),此時(shí)電壓開(kāi)關(guān)僅有極低的導(dǎo)通損耗。在輕載情況下,導(dǎo)通損耗最小,故驅(qū)動(dòng)損耗更為重要。眾所周知,透過(guò)下列公式2可以計(jì)算出驅(qū)動(dòng)損耗:

              公式2

              在同步整流中,電流于導(dǎo)通期間從MOSFET的源極流到汲極,而在死區(qū)時(shí)間(Dead Time)則流經(jīng)體二極體。由于MOSFET是軟開(kāi)關(guān),在開(kāi)關(guān)的開(kāi)啟和關(guān)閉瞬間dVds/dt為零,所以同步整流時(shí)電源MOSFET的柵極-源極電壓并沒(méi)有高原區(qū)。因此,在SR、QSYNC間產(chǎn)生的柵極電荷,其大小約等于柵極電荷之柵極-漏極QGD減去總柵極電荷QG。如表1所示,最新溝槽 MOSFET的QSYNC相較于傳統(tǒng)溝槽柵極MOSFET與75V/3.3m對(duì)照元件,可分別降低28%與34%。圖1顯示上述三種元件的驅(qū)動(dòng)損耗和導(dǎo)通損耗之損耗率比較。測(cè)試環(huán)境為12伏特(V)同步整流平臺(tái),柵極驅(qū)動(dòng)電壓為10V,開(kāi)關(guān)頻率為100kHz。其中兩個(gè)同步開(kāi)關(guān),在10%輸出負(fù)載條件下,其柵極驅(qū)動(dòng)損耗是導(dǎo)通損耗的三倍以上。由圖1可知,柵極屏蔽MOSFET可以大大降低在輕負(fù)載條件下因?yàn)樾SYNC所產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)損耗。

              

              圖1 依輸出負(fù)載的損耗率比較

              。體二極體損耗

              在死區(qū)時(shí)間,體二極體為導(dǎo)通。體二極體導(dǎo)通時(shí)會(huì)產(chǎn)生可觀的功率損耗,因?yàn)橄噍^于MOSFET通道,P-N接面造成的電壓降更高。體二極體在死區(qū)時(shí)間導(dǎo)通所造成的功率損耗,會(huì)明顯降低整體效率,特別是在低電壓和高頻率時(shí),其導(dǎo)通損耗可由公式3得知: 

              公式3

              在MOSFET關(guān)閉瞬間,反向恢復(fù)電荷Qrr會(huì)消失,而共源極輸出電容COSS會(huì)充電至滿(mǎn)足二次側(cè)的轉(zhuǎn)換電壓為止。二極體反向恢復(fù)電荷Qrr,在開(kāi)關(guān)關(guān)閉時(shí)也會(huì)造成功率損耗。因體二極體特性產(chǎn)生的功率損耗可由公式4得知:

              公式4

              輸出電容中儲(chǔ)存的電荷QOSS也會(huì)造成功率損耗,并與開(kāi)關(guān)頻率和VDS成正比。因COSS造成的功率損耗可由公式5求出:

              公式5



              電壓突波(Spikes)的影響

              實(shí)際應(yīng)用中,緩沖器可用于控制最大額定漏極-源極電壓之電壓突波,在此情況下,額外的功率損耗是不可避免的。此外,在輕負(fù)載時(shí)緩沖器造成的功率損耗也是不可小覷。除了電路板設(shè)計(jì)的良窳,元件特性也會(huì)影響電壓突波等級(jí)。在同步整流中,反向恢復(fù)期間體二極體的軟度就是一個(gè)主要的元件參數(shù)。二極體的反向恢復(fù)特性,基本上在元件設(shè)計(jì)階段就已決定。

              寄生電感會(huì)嚴(yán)重影響MOSFET的開(kāi)關(guān)特性,通常會(huì)導(dǎo)致開(kāi)關(guān)損耗增加并使其偏離預(yù)期的性能。因元件封裝和電路Layout而產(chǎn)生寄生電感,為電路必然現(xiàn)象。封裝的電感大部分源于接腳長(zhǎng)度,業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)的通孔TO-220封裝通常會(huì)有7nH的接腳電感,但 PQFN56 SMD封裝卻僅有1nH。另外還有電路Layout產(chǎn)生的寄生電感和電容。在電路Layout中,線(xiàn)間距1公分約會(huì)產(chǎn)生6?10nH的電感。這些寄生電感直接影響到體二極體的反向恢復(fù)特性和電壓突波峰值。在資料表中的體二極體恢復(fù)電荷是COSS位移電流之總和,包括回收的少數(shù)載流子的電流,以及從測(cè)試電路的公共源極電感產(chǎn)生的反應(yīng)電流。圖2所示為根據(jù)各種常見(jiàn)源極電感模擬之體二極體反向恢復(fù)過(guò)程波形;很明顯地,較高的電感將導(dǎo)致較大的Qrr和更高的峰值電壓。若是使用1nH源極電感之Power56 SMD封裝,峰值電壓將可從59.2V降低到55.6V。因此,如何盡量減少源極電感,成為改善系統(tǒng)效率的主要關(guān)鍵。

              

              圖2 根據(jù)源極電感得出之體二極體的反向恢復(fù)波形比較

              柵極屏蔽MOSFET性能躍進(jìn)

              現(xiàn)今廠(chǎng)商已開(kāi)發(fā)出許多新技術(shù),可提高RDS(ON)×QG FOM,其中主要針對(duì)導(dǎo)通阻抗中電壓MOSFET(BVDSS

              

              圖3 傳統(tǒng)溝槽柵極MOSFET(左)與采用屏蔽柵極技術(shù)的溝槽MOSFET(右)之垂直結(jié)構(gòu)

              由于輕負(fù)載時(shí)的效率日益重要,柵極驅(qū)動(dòng)損耗與緩沖器損耗也變得更加重要。因此,低QSYNC與高軟度的體二極體成為改善同步整流效率的重要因素。然而,RDS(on)仍是應(yīng)用中的關(guān)鍵參數(shù)。圖4顯示表1中三個(gè)元件在600W相移式(Phase-shifted)全橋轉(zhuǎn)換器同步整流系統(tǒng)的效率比較。在輕負(fù)載條件下,使用最新柵極屏蔽溝槽MOSFET的系統(tǒng)總效率為95.36%,在全負(fù)荷狀態(tài)下則是95.34%。由于低驅(qū)動(dòng)損耗和關(guān)斷切換損耗,在10% 的負(fù)載下采用柵極屏蔽架構(gòu)的MOSFET系統(tǒng)總效率,相較于傳統(tǒng)溝槽柵極MOSFET和75V/3.3mOhm對(duì)照組,分別高出0.1%和0.19%。從圖4效率比較結(jié)果明顯可知,柵極屏蔽溝槽MOSFET在全負(fù)荷和輕負(fù)荷條件下,都能顯著減少功率損耗,并結(jié)合小QSYNC和快速切換的軟反向恢復(fù)體二極體性能,可以大大提高同步整流效率。

              

              圖4 在600W時(shí)的同步整流效率比較

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