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            EEPW首頁 > 嵌入式系統(tǒng) > 設計應用 > 三星3D V-NAND固態(tài)盤加速企業(yè)閃存進化

            三星3D V-NAND固態(tài)盤加速企業(yè)閃存進化

            作者: 時間:2016-09-12 來源:網(wǎng)絡 收藏

            三星最新的產(chǎn)品是一種面向企業(yè)級應用、高可靠的固態(tài)盤存儲--固態(tài)盤。最新用于固態(tài)盤技術帶來性能上的提升,節(jié)省電力消耗,并提高了急需的可靠性。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/201609/303935.htm

            固態(tài)盤有480GB和960GB兩個容量點,960GB容量的固態(tài)盤提供最高性能,采用64個MLC V-NAND閃存讓連續(xù)隨機讀速度提高了20%。

            新推出的V-NAND固態(tài)盤還提供了35K擦除周期,2.5英寸規(guī)格,為服務器制造商提供更高的設計靈活性和可擴展性。

            三星電子半導體研發(fā)中心執(zhí)行副總裁E.S. Jung在最近的閃存內(nèi)存峰會(Flash Memory SUmmit)上表示:“三星的 V-NAND克服了將制程工藝縮小到10納米以下的難以逾越的障礙,為全球客戶提供最高密度的可靠性,性能提高20%,能耗降低40%。”

            “我們將繼續(xù)為服務器、移動設備以及PC市場推出各種不同的綠色內(nèi)存產(chǎn)品以及解決方案,幫助減少能源浪費,在企業(yè)級和消費級領域創(chuàng)造更大的共同價值。”

            據(jù)三星稱,專有的 V-NAND技術比20納米級NAND閃存的制造生產(chǎn)力提高了兩倍以上,通過利用3D Charge Trap Flash單元結(jié)構以及垂直互連技術,連接24層組成3D單元陣列。

            3D V-NAND固態(tài)盤將從本月開始生產(chǎn)。



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