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            物聯(lián)網將掀晶圓代工變革?日本及三星策略大轉向

            作者: 時間:2016-08-29 來源:technews 收藏
            編者按:物聯(lián)網改變的不只是消費者的生活,對產業(yè)而言,更是一場典范轉移,物聯(lián)網掀起的變革,從晶圓代工也可見端倪。

              風潮漸起,連臺積電董事長張忠謀都喊出是 “The next big thing”,不只消費電子大廠、網通設備廠商紛紛朝此布局,代工市場也可能為此發(fā)生質變?

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/201608/296121.htm

              之下,以往制造業(yè)大量生產創(chuàng)造規(guī)模經濟的模式不再,取而代之的是多元化應用與少量多樣的產品特性,日本在今年 4 月推出迷你廠(Minimal Fab)強調造價低廉、小批量生產,就是瞄準物聯(lián)網感測器少量多樣的需求。

              現(xiàn)在連三星也出現(xiàn)代工策略的大改變,不只是為物聯(lián)網,更是為降低對高通與蘋果等大客戶的依賴。據(jù)韓國媒體 ET News 報導,三星正在改變原本量產的晶圓代工策略,轉向小量多樣化接單,并開始接美國、韓國、中國中小型規(guī)模廠商訂單,三星稱此計畫為“開放式晶圓廠(open foundry)”。報導中指出包含如 HanaTech、AlphaChips、KoreaChips 等韓廠,以及臺灣世芯(AllChip)、中國芯原(VeriSilicon)、美國加州 e-Silicon 等其他海外 IC 設計廠都是三星此次策略合作的對象。

              不只接單,制程技術或也可能出現(xiàn)變化,F(xiàn)inFET 技術被視為 20 奈米以下半導體制程微縮的重要技術,不少半導體大廠將資源傾注在 FinFET,但在物聯(lián)網浪潮來臨,F(xiàn)D-SOI(全耗盡型絕緣層覆矽)技術也日漸受到重視。與 FinFET 相比,F(xiàn)D-SOI 基板雖然較貴,但在掩模數(shù)量與制造工序比 FinFET 來得少,減少部分光罩成本也縮減了制造時間,在技術上比 FinFET 更適合類比/混合訊號、RF,F(xiàn)D-SOI 還具備了低功耗的優(yōu)勢,因此,不少人認為 FD-SOI 將是物聯(lián)網較佳選擇,或能與 FinFET 互補。

              FD-SOI 由意法半導體借力與三星、IBM、格羅方德所組的 ISDA(國際半導體開發(fā)聯(lián)盟)所開發(fā),除了掌握技術的意法半導體本身,三星以 FinFET 致力在 14 奈米、10 奈米等先進制程競逐外,也在生命周期較長的 28 奈米制程布建 FD-SOI 產能,傳出 FD-SOI 已達到黃金良率,并估計于第三季開始量產。

              而格羅方德押寶 FinFET 的同時,在去年即基于 22 奈米 FD-SOI 推出“22FDX”平臺,聲稱晶粒尺寸縮減 20%,光罩數(shù)目減少 10%;相較 foundry FinFET,減少近 50% 的浸潤式微影層,并強調對比 28 奈米 HKMG 功耗的大幅縮減。



            關鍵詞: 物聯(lián)網 晶圓

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