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            中芯國(guó)際28nm HKMG工藝成功流片

            作者: 時(shí)間:2016-02-17 來(lái)源:SEMI 收藏
            編者按:全世界能搞出來(lái)的也就那么幾家,進(jìn)步已然神速。

              集成電路制造有限公司(/SMIC)2月16日宣布,28nm (高介電常數(shù)金屬閘極)工藝已經(jīng)成功流片。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/201602/287020.htm

              是中國(guó)大陸第一家能夠同時(shí)提供28nm PolySiON(多晶硅)、28nm 工藝的晶圓代工企業(yè)。與傳統(tǒng)的PolySiON工藝相比,技術(shù)可有效改善驅(qū)動(dòng)能力,進(jìn)而提升晶體管的性能,同時(shí)大幅降低柵極漏電量。

              與此同時(shí)聯(lián)芯科技宣布將基于中芯國(guó)際28nm HKMG工藝打造新的智能手機(jī)SoC芯片,包括移動(dòng)處理器和基帶,CPU主頻達(dá)1.6GHz,目前已通過(guò)驗(yàn)證,準(zhǔn)備進(jìn)入量產(chǎn)階段。

              此外,中芯國(guó)際還將持續(xù)進(jìn)行28nm技術(shù)平臺(tái)的開發(fā)及改善,預(yù)計(jì)2016年底推出基于HKMG工藝的緊湊加強(qiáng)型版本。



            關(guān)鍵詞: 中芯國(guó)際 HKMG

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