熱阻的重要性表現(xiàn)在多個(gè)方面，包括器件的額定電流，如表1所示。給出的三種不同的600V器件的額定電流均為7A，但各自的RDS(on)值與RΦJC值差異很大。由于MOSFET器件的額定電流只是由導(dǎo)通損耗公式?jīng)Q定的，因此低熱阻的影響明顯。

因此，選擇正確的器件實(shí)際上取決于你打算如何使用這些器件，打算使用什么切換頻率，什么拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)和應(yīng)用中的導(dǎo)熱路徑，當(dāng)然，還要考慮你準(zhǔn)備接受的成本。

一些通用的指導(dǎo)是，在不存在體二極管恢復(fù)損耗的功率因數(shù)校正（PFC）及回掃應(yīng)用中，如果RDS(on)大于1Ω，高級(jí)平面工藝，例如,UniFET（II）、QFET及CFET則是較好的解決方案。這很大程度上是因?yàn)檩^低的RΦJC有助于器件保持較低溫度。對(duì)于高RDS(on)的需求，由于邊緣終端的緣故，電荷反射型器件的有緣區(qū)在整個(gè)片基區(qū)域中的比例相對(duì)較小，而平面工藝的MOSFET，即使硅片稍大，也是較為便宜的工藝，而兩者封裝成本大至相同。

對(duì)于需要反向恢復(fù)的應(yīng)用，在RDS(on)值與RΦJC值之外還需考察二極管特性，這一點(diǎn)是十分重要的。采用高級(jí)平面工藝與電荷平衡工藝的MOSFET器件均可具備改進(jìn)體二極管的特性。

在需要最低RDS(on)與快速切換的應(yīng)用中，新的平衡型器件，例如SupreMOS與SuperFET，可提供最大的優(yōu)勢(shì)。一般而言，SuperFET器件在RDS(on)要求為0.5～1Ω之時(shí)優(yōu)勢(shì)最大。而SuperMOS在RDS(on)低于0.5Ω時(shí)優(yōu)勢(shì)明顯。這一差異又是由于熱阻的作用。