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            數(shù)字電路中△I噪聲的危害

            作者: 時間:2010-12-22 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/187674.htm

              式中,IP為電源電流尖峰脈沖的峰值,tT=t2-t1=t4-t3為TP和TN同時導通的時間,f為輸入信號的頻率。

              根據(jù)CMOS反相器對負載電容充、放電電流的波形,可求得iP和iN所產(chǎn)生的平均功耗為[1,2]:

              

            公式

              式中, iP、iN分別表示負載電容CL充、放電電流。

              CMOS反相器的動態(tài)功耗比靜態(tài)功耗大得多,一般情況下,靜態(tài)功耗可以不予考慮。

              例如,對一個專門的CMOS反相器,VDD=15V,靜態(tài)電源電流IDD≤1μA,負載電容=60pF。輸入信號為理想的矩形波,頻率f=100kHz。據(jù)式(6)可得PC=CL f V2DD=1.35mW,而靜態(tài)功耗為PS=IDDVDD=0.015mW,顯然,PC>>PS。

              值得注意的是,隨著數(shù)字IC的發(fā)展,頻率f(工作速度)不斷提高。同時,數(shù)字IC中門的數(shù)目越來越多,芯片上總電容(CL)也在增加。這都將引起功耗進一步增大。

              從上述分析可見,△I噪聲會引起的功耗明顯增加,且隨著向高速度和大規(guī)模方向的不斷發(fā)展,這一問題會越來越突出,已逐步成為數(shù)字設(shè)計的關(guān)鍵問題之一。

              5 輻射發(fā)射

              對△I噪聲引起的輻射發(fā)射,小環(huán)天線方式是主要的。

              設(shè)小環(huán)天線的環(huán)路面積為A、電流大小為I、電流頻率為f,則在距離為r處的自由空間的輻射電場強度為[9,10]:

              

            公式

              式(8)表明,小型環(huán)狀天線的輻射強度與電流大小I、電流頻率的平方及環(huán)路面積A成正比。

              由△I噪聲的基本特點可知, △I噪聲引起的輻射發(fā)射十分復雜,與很多具體因素有關(guān),定量計算是很困難的。為了對△I噪聲引起的輻射發(fā)射的強度有一個定量的概念,作如下分析。

              利用式(8)解環(huán)路面積A,可得到不超過標準發(fā)射限值的最大環(huán)路面積。面積A可表示為:

              

            公式

              式中, ER表示輻射電場強度(μV/m),r表示環(huán)路與測量點的距離(m),f為電流頻率(MHz),I為電流大小(mA),A為環(huán)路面積(cm2)。

              對一個TTL反相器,若取I=35mA,f=30MHz,r=3m,ER=100μV/m,則由式(9)可求得A=3.6cm2。

              r=3m時ER=100μV/m是美國FCC(Federal Communications Commission)標準B類產(chǎn)品(住宅應用)所允許的輻射限值。也就是說,當I=35mA、f=30MHz時,若A>3.6cm2,則輻射超標。

              若再考慮到△I噪聲具有疊加性,以及的速度越來越高,則△I噪聲引起的輻射發(fā)射問題更為嚴重?,F(xiàn)在△I噪聲引起的輻射發(fā)射已成為很多數(shù)字系統(tǒng)(電子產(chǎn)品)難以通過EMC強制測試認證的主要原因。

              △I噪聲主要引起數(shù)字系統(tǒng)的電源電壓波動、電路內(nèi)部噪聲、輸出波形畸變和傳播延遲、功耗增加、輻射騷擾等嚴重問題。這些危害集中體現(xiàn)在兩個方面。一方面會導致系統(tǒng)本身性能下降、工作出錯甚至完全失效。對系統(tǒng)本身造成的危害一般是多方面的,且往往相互交錯。另一方面會導致系統(tǒng)的輻射發(fā)射超標。輻射發(fā)射超標已成為很多數(shù)字系統(tǒng)(電子產(chǎn)品)不能通過EMC強制測試認證的主要原因。

              △I噪聲的危害,與很多具體因素有關(guān),一些危害相互交錯、相互影響,很難對它們進行簡單地分類。所以,目前對其建模與仿真尚在研究階段,是EDA技術(shù)中最困難的問題之一。


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