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            EUV光刻技術(shù)或助力芯片突破摩爾定律

            作者: 時間:2013-11-06 來源:hc360 收藏

              據(jù)美國科技博客Business Insider報(bào)道,在近50年的科技發(fā)展中,技術(shù)變革的速度一直遵循著。一次又一次的質(zhì)疑聲中,英特爾堅(jiān)定不移地延續(xù)著的魔力。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/185085.htm

              是由英特爾聯(lián)合創(chuàng)始人GordonMoore提出,內(nèi)容為:當(dāng)價(jià)格不變時,集成電路上可容納的晶體管數(shù)目,約每隔18個月便會增加一倍,性能也將提升一倍。換言之,每一美元所能買到的電腦性能,將每隔18個月翻兩倍以上。這一定律揭示了信息技術(shù)進(jìn)步的速度。

              在幾十年來,芯片技術(shù)得以快速變革和發(fā)展,變得更加強(qiáng)大,節(jié)省了更多的空間和資源,這也使得電腦的速度成倍地變快、體積成倍地變小。

              但有些物理專家表示,除非有某種技術(shù)的突破才能突破摩爾定律的限制。今天,英特爾等芯片廠商通過量子力學(xué)技術(shù)能夠在尖端芯片上擺放數(shù)十億個微處理器。

              摩爾定律的延續(xù)已成為一個巨大挑戰(zhàn),英特爾CEOBrianKrzanich給出的解決方案是——一種新的技術(shù)extremeultravioletlithography(,極紫外線光刻技術(shù)),可以幫助英特爾繼續(xù)做出更小、更快、更高效的芯片。不幸的是,這說起來容易做起來難。

              荷蘭微影設(shè)備大廠ASML在2009年就公布了光刻技術(shù),但一直未有顯著的進(jìn)展,為推動該技術(shù)的研發(fā),在去年的夏天英特爾向其注資41億美元。

              雖然在芯片創(chuàng)新的路上存在無數(shù)的挑戰(zhàn)和障礙,但是英特爾一直沒有停止過自己的腳步:上月中旬,英特爾在IDF上展示了在PC上運(yùn)行的14nmBroadwellCPU。日前,英特爾CEO稱,由于生產(chǎn)問題,下一代Broadwell處理器將被推遲至明年發(fā)布。

              另外,英特爾計(jì)劃在2015年采用10nm的晶體管,而到了2017年達(dá)到7nm,這些都是出奇的小。相比較而言,人身上的血細(xì)胞是7000nm,而一個DNA鏈為2.5nm。

              英特爾目前還未過多的談?wù)?a class="contentlabel" href="http://www.biyoush.com/news/listbylabel/label/EUV">EUV光刻技術(shù),可能涉及競爭的原因等,但是,如果該技術(shù)被得以大范圍采用并推向市場,那么7nm芯片等都也將成為可能。

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