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            晶體硅太陽電池?cái)U(kuò)散氣氛場均勻性研究

            作者: 時(shí)間:2009-10-16 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

            2.1 工藝氣體流量對爐內(nèi)溫度的影響
            在工藝溫度穩(wěn)定條件下,關(guān)閉小N2(磷源bubbler bottle),通過手動(dòng)調(diào)節(jié)大N2流量,試驗(yàn)記錄爐石英反應(yīng)管內(nèi)爐口、爐中、爐尾3段Profile TC(tlaermal couple)溫度隨爐內(nèi)氣體流量(壓強(qiáng))的變化情況,以爐內(nèi)場氣體流量(壓強(qiáng))變化對與性密切關(guān)聯(lián)的溫度影響程度和趨勢。試驗(yàn)過程包括:
            (1)檢查爐門及各氣路連接處的密封性;
            (2)設(shè)備溫度PID參數(shù)自整定;
            (3)手動(dòng)調(diào)節(jié)大N2流量,從25 L/min,增加到27 L/min,記錄流量調(diào)節(jié)前后穩(wěn)定溫度值和流量變化導(dǎo)致的溫度動(dòng)態(tài)偏差值,見表1;
            (4)手動(dòng)調(diào)節(jié)大N2流量,從25L/min,減少到23 L/min,記錄流量調(diào)節(jié)前后穩(wěn)定溫度值和流量變化導(dǎo)致的溫度動(dòng)態(tài)偏差值,見表2,表中Zone1為爐尾,Zone2是爐中尾,Zone3為爐中,Zone4是爐中口,Zone5為爐口。
            從表1和表2的數(shù)據(jù)可看出,氣流量由25 L/min向27 L/min變化,爐尾溫度降低1℃,爐口溫度無變化,氣流量由25 L/min減少到23 L/min,爐尾溫度升高1℃,爐口溫度降低1℃。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/181202.htm

            2.3 廢氣排放位置對爐口性的影響
            爐恒溫區(qū)的有限性與生產(chǎn)產(chǎn)量的最大化是矛盾關(guān)聯(lián)的。在生產(chǎn)中,需要在恒溫區(qū)最大限度地放置擴(kuò)散硅片,保證恒溫區(qū)溫度的精度和穩(wěn)定性。因配置懸臂式裝載系統(tǒng)的擴(kuò)散爐爐口對溫度的干擾最大,可將廢氣管口盡可能地靠近爐門,同時(shí)也能改善靠近爐口方向硅片反應(yīng)區(qū)域場的性。因此,分別調(diào)整廢氣排放位置并進(jìn)行試驗(yàn)對比。



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