2005年全球化學(xué)機械研磨液市場規(guī)模達(dá)5.67億美元，較2004年僅成長3.4%，與2004年之成長率24.3%相較趨緩許多，分析成長趨緩因素有二：一是半導(dǎo)體市場成長趨緩，2005年全球半導(dǎo)體市場僅成長6.8%；二是競爭廠商增加，日本、我國臺灣廠商為擴大市場占有率，在銅制程高階產(chǎn)品引發(fā)降價。因此即全球使用量較由2004年94,300噸成長至2005年111,280噸，成長率高達(dá)18%，但是金額僅成長3.4%。預(yù)估2006年全球半導(dǎo)體市場成長8.0%，化學(xué)機械研磨液使用量成長3.6%，金額在高階制程TaN Barrier Layer進(jìn)入成長階段，預(yù)計成長8.8%，2007、2008年持續(xù)成長趨勢。


資料來源：富士總研；IEK (2006/03)
圖    全球化學(xué)機械研磨液市場成長趨勢(百萬美元)


Cabot為全球最主要供貨商，產(chǎn)品系列齊全，尤其在鎢金屬制程產(chǎn)品市占率最高，地位也最為穩(wěn)固；Fujimi與Rohm&Haas在氧化層制程產(chǎn)品上表現(xiàn)較好，一般日系半導(dǎo)體廠商多使用Fujimi的產(chǎn)品，美系及歐系廠商多使用Rohm&Haas產(chǎn)品，除了DRAM半導(dǎo)體氧化層制程，在硅晶圓材料拋光方面，也是Fujimi與Rohm&Haas的主要目標(biāo)市場，JSR專注銅制程產(chǎn)品，臺積電、Toshiba已少量在使用，TaN阻障層也以JSR、Rohm&Haas為主要供貨商；我國臺灣廠商長興化工主力放在銅制程研磨液市場，近一兩年也開始打入全球市場。化學(xué)機械研磨液領(lǐng)域近年來加入者眾，面對日本廠商的侵蝕，產(chǎn)品價格下降，廠商競爭越來越辛苦，日本廠商的競爭力不容忽視，但目前仍以Cabot主宰CMP研磨液市場。