2012年3月，東方集成在上海某研究所成功安裝了SENTECH SI500D等離子體沉積系統(tǒng)。SI500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設備，用于在基片上沉積 SiOx, SiOxNy或 SiNy薄膜。沉積薄膜的厚度、折射率、應力可以簡單的、連續(xù)的調(diào)節(jié)。

　　這是帶LOADLOCK的SI500D等離子沉積系統(tǒng)在中國的第一次安裝。SENTECH ICP-PECVD設備的安裝，由德國原廠技術支持工程師和東方集成工程師共同完成，由SENTECH和東方集成共同承擔售后保修，具有標志性的歷史意義。　　

本次的安裝，體現(xiàn)了東方集成為客戶考慮，將工作做完美的一貫宗旨;也標志著，SENTECH中國區(qū)等離子體刻腐蝕和沉積系統(tǒng)業(yè)務在與東方集成的合作中進入了飛速、穩(wěn)定的發(fā)展。