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            晶圓廠資本支出 Q3回溫

            —— 韓國是今年晶圓廠資本支出唯一持續(xù)成長地區(qū)
            作者: 時(shí)間:2012-01-15 來源:中電網(wǎng) 收藏

              國際半導(dǎo)體設(shè)備材料協(xié)會(huì)(SEMI)11日指出,韓國將是今年廠資本支出唯一持續(xù)成長地區(qū),三星資本支出預(yù)估達(dá)103億美元,年成長38.6%。相較臺(tái)積電(2330)今年資本支出轉(zhuǎn)緩,透露代工先進(jìn)制程戰(zhàn)火激烈。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/128118.htm

              國際半導(dǎo)體設(shè)備材料協(xié)會(huì)最新報(bào)告指出,2012年全球廠的資本支出達(dá)350億美元,雖較去年下滑10.6%,仍高于2010年。

              臺(tái)積電2005至2008年平均年資本支出約20多億美元,法人圈預(yù)估,臺(tái)積電2012年全年資本支出約在60億至65億美元之間,因28納米持續(xù)擴(kuò)充,最樂觀者上看70億美元,實(shí)際資本支出金額將于18日法說公布。

              SEMI認(rèn)為,2012全球半導(dǎo)體晶圓廠的資本支出預(yù)期雖下滑,但因、三星、臺(tái)積電資本支出今年仍高,預(yù)期全球晶圓資本支出在第二季會(huì)是今年谷底,下半年逐季回溫。



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