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            EEPW首頁 > EDA/PCB > 業(yè)界動態(tài) > 3D封裝TSV技術(shù)仍面臨三個難題

            3D封裝TSV技術(shù)仍面臨三個難題

            —— TSV的發(fā)展道路或?qū)⒏勇L
            作者: 時間:2011-10-11 來源:半導(dǎo)體制造 收藏

              Nowak還引用了一些背面晶圓加工、薄化晶圓的臨時托盤開發(fā)情況,并展示了有時用于取代過孔的連接微凸塊。EDA供應(yīng)商也在架構(gòu)工具和2D建構(gòu)工具方面取得了進展。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/124296.htm

              “你可以設(shè)計一個設(shè)備來使用這些工具,”他說。

              然而,目前這些工具仍然缺乏有關(guān)機械應(yīng)力、封裝和芯片水準(zhǔn)的交換數(shù)據(jù)標(biāo)準(zhǔn)。業(yè)界仍需為在TSV應(yīng)用中“大幅減少”的靜電放電水平容差定義標(biāo)準(zhǔn),他說。

              另外,業(yè)界也正在開發(fā)測試程序。“目前仍不清楚在量產(chǎn)時是否會使用到微探針(micro-probing)”他指出,重點是要削減成本,但“我們?nèi)栽谠黾訙y試步驟。”


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            關(guān)鍵詞: 高通 3D封裝

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