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      GlobalFoundries 20nm工藝成功流片

      —— 是新工藝發(fā)展之路上里程碑式的關鍵一步
      作者: 時間:2011-08-31 來源:驅動之家 收藏

        今天宣布,最新的工藝試驗芯片已于近日成功流片,這也是新工藝發(fā)展之路上里程碑式的關鍵一步。

      本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/123071.htm

         工藝使用了四家電子設計自動化(EDA)廠商的工藝流程,分別是Cadence Design Systems、Magma Design Automation、Mentor Graphics Corporation、Synopsys Inc.。

        通過此次成功流片,證明自己已經(jīng)做好準備,可以接受客戶對新工藝的評估了,不過除了暢談和幾家EDA伙伴之間的親密合作之外,GlobalFoundries并未透露新工藝的更多細節(jié),博包括使用了哪些新技術、有哪些潛在客戶、何時能夠量產(chǎn)等等。

        20nm是迄今為止最為先進的半導體技術。今年初的時候,IBM曾經(jīng)展示過全世界第一塊20nm工藝晶圓,使用了HKMG和Gate-Last技術。七月中旬的時候,三星電子也宣布完成了全球第一顆20nm工藝試驗芯片的流片。

        根據(jù)此前消息,GlobalFoundries 22/20nm可能會首次使用先進的極紫外光刻技術,唯一的問題就是要到2014-2015年才能量產(chǎn)。曾有一份AMD路線圖顯示2013年的服務器處理器會采用28nm工藝,這是否意味著AMD會耐心等待極紫外光刻的20nm呢?



      關鍵詞: GlobalFoundries 20nm

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