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            EEPW首頁(yè) > 網(wǎng)絡(luò)與存儲(chǔ) > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 海力士半導(dǎo)體放緩NAND Flash工藝轉(zhuǎn)換速度

            海力士半導(dǎo)體放緩NAND Flash工藝轉(zhuǎn)換速度

            作者: 時(shí)間:2011-06-10 來(lái)源:Digitimes 收藏

              南韓半導(dǎo)體大廠半導(dǎo)體(Hynix)主要 Flash產(chǎn)品群,近期將從原本的30納米制程轉(zhuǎn)換至20納米級(jí)制程。目前整體 Flash產(chǎn)量,以26納米制程產(chǎn)品比重逾50%為最大。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/120298.htm

              相關(guān)人員表示,26納米制程 Flash比重至2011年3月底約為40%,6月已超越50%,月底可望提升到50%中段。26納米制程產(chǎn)品將逐漸取代32納米制程產(chǎn)品,成為海力士主力產(chǎn)品。

              NAND Flash為非揮發(fā)性內(nèi)存芯片,即使中斷供電也能儲(chǔ)存信息,是智能型手機(jī)、平板計(jì)算機(jī)等行動(dòng)裝置的主要內(nèi)存。若采用26納米制程生產(chǎn)的NAND Flash,可縮減單一晶圓生產(chǎn)的半導(dǎo)體尺寸,生產(chǎn)性較32納米制程提升60%以上。

              尤其26納米制程在生產(chǎn)32Gb和64Gb等高容量NAND Flash產(chǎn)品時(shí),較32納米制程更有利,可積極應(yīng)對(duì)近來(lái)以行動(dòng)裝置為中心暴增的內(nèi)存需求趨勢(shì)。

              海力士目前正在忠清北道清州廠增建NAND Flash專用廠M11,而M11大部分為26納米制程設(shè)備。海力士相關(guān)人員表示,海力士2011年將會(huì)致力強(qiáng)化NAND Flash競(jìng)爭(zhēng)力,在轉(zhuǎn)換至26納米制程后,計(jì)劃2011年下半開始投入20納米制程N(yùn)AND Flash量產(chǎn)。另一方面,海力士2010年第3季到第4季,在NAND Flash市場(chǎng)的市占率從9.4%攀升至10.4%,2011年第1季擴(kuò)大至10.7%。



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