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      Imec發(fā)布EUV掩膜缺陷評估方面的成果

      作者: 時間:2011-04-20 來源:Imec 收藏

        聯(lián)合合作伙伴發(fā)布兩份評估結(jié)果,結(jié)果顯示EUV供應商須在檢測掩膜缺陷能力方面進行改善。并與Zeiss SMS合作通過實驗演示了一項消除缺陷的補償技術(shù)。

      本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/118835.htm


      關(guān)鍵詞: Imec EUV掩膜

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