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            EEPW首頁 > 電源與新能源 > 市場分析 > 2011年晶圓廠資本支出創(chuàng)歷史新高

            2011年晶圓廠資本支出創(chuàng)歷史新高

            —— 將增長22%
            作者: 時(shí)間:2011-03-07 來源:SEMI 收藏

              根據(jù)SEMI World Fab Forecast的報(bào)告,2011年全球廠項(xiàng)目支出,包括建設(shè)、設(shè)施、,將較2010年增長22%,其中支出(包括新和二手設(shè)備)將增長28%。該分析報(bào)告基于近期所宣布的資本支出計(jì)劃,主要來自代工廠商和存儲芯片廠商。

            本文引用地址:http://www.biyoush.com/article/117489.htm

              “廠項(xiàng)目總支出今年將接近472億美元,較2010年的386億美元大幅增漲。”SEMI Industry Research and Statistics高級分析師Christian Gregor DieseldoRFf說道,“2011的支出將最終超過2007年464億美元的峰值水平。”



            關(guān)鍵詞: 晶圓 設(shè)備

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