SUSS MicroTec AG的全資子公司HamaTech APE GmbH & Co. KG近日宣布，已接到幾十份MaskTrack Pro設(shè)備訂單。MaskTrack Pro于2009年投產(chǎn)，是用于下一代光刻領(lǐng)域的完整掩膜流程平臺(tái)。

　　對(duì)于亞22nm 193nm浸沒(méi)式光刻、EUVL深紫外光刻、NIL接觸式納米壓印技術(shù)等先進(jìn)光刻工藝的掩膜版，MaskTrack Pro是目前已知唯一可以實(shí)現(xiàn)清洗、烘烤和顯影步驟的設(shè)備。MaskTrack Pro結(jié)合物理和化學(xué)清洗技術(shù)，能有效去除有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物，而不破壞易受損的掩膜版線條和材料結(jié)構(gòu)。MaskTrack Pro使用獨(dú)特的ASonic®專利顯影技術(shù)，以及先進(jìn)的曝光后烘烤方式，能幾近完美地實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵尺寸的一致性，這對(duì)于亞22nm雙重圖形技術(shù)尤為重要，可以沉著應(yīng)對(duì)未來(lái)先進(jìn)光刻技術(shù)的挑戰(zhàn)。

　　“下一代光刻技術(shù)發(fā)展，促使MaskTrack Pro的市場(chǎng)加速發(fā)展。2011年初，MaskTrack Pro將被諸多全球領(lǐng)先的公司采用。”，HamaTech首席執(zhí)行官Wilma Koolen-Hermkens介紹道，“我們十分高興地看到，多家客戶已經(jīng)采購(gòu)了我們的設(shè)備。我們希望MaskTrack Pro能成為業(yè)界的標(biāo)準(zhǔn)配置設(shè)備。”

　　“實(shí)現(xiàn)掩膜版完整流程是MaskTrack Pro平臺(tái)設(shè)計(jì)的中心思想，對(duì)先進(jìn)光刻技術(shù)起到了重要作用。” SUSS MicroTec的總裁監(jiān)首席執(zhí)行官Frank Averdung說(shuō)，“感謝我們的客戶和合作伙伴的共同努力，我們研發(fā)出了MaskTrack Pro系統(tǒng)，以迎接下一代光刻技術(shù)完整掩膜流程的苛刻挑戰(zhàn)。”